專為 RO 後段連續式去離子設計，確保高純水長時間穩定運轉 。

• 處理量：100–2,000 LPH（公升/小時）
• 連續製程，不需使用酸鹼化學藥劑再生，操作維護
• 簡化、風險更低 。穩定高效，專為高純水長時間
• 定運轉而設計 。適合作為製藥、電子與鍋爐高純水的核心設

安裝於 RO 產水後段，是進一步降低導電度、將水質純度推向極致的關鍵設備 。

• 處理量：25 ~ 7,500 LPH 
• 功能：進一步降低導電度、提升水質純度 。
• 應用：適用於電子與光電元件清洗、精密製程終端拋光用水 。

專為醫院、實驗室、精密儀器與研究機構設計的 UPW 系統 。

• 出水品質：比電阻可達 18.2 MΩ·cm 的業界最高標準 。
• 處理量：8 – 48 LPH (50 – 3000 GPD) 。
• 適用場景：分析儀器用水、細胞培養用水、研究單位高標準用水。