UPW超純水系統
ROTEK 具備超過 25 年的超純水系統整廠規劃與製造經驗 ，廣泛應用於製藥工廠、實驗室、半導體與電子元件清洗等高標準領域 。
我們能依據客戶的製程與法規需求，提供從設計、承製到施工的一站式解決方案
系統架構與核心模組
ROTEK 提供多樣化的 UPW 模組，可依據您的產能與水質條件彈性搭配，確保產出穩定、符合您要求的超純水 。
產品系列導覽
EDI電去離子水系統
專為 RO 後段連續式去離子設計，確保高純水長時間穩定運轉 。
- 處理量：100–2,000 LPH（公升/小時）
- 連續製程，不需使用酸鹼化學藥劑再生，操作維護
- 簡化、風險更低 。穩定高效，專為高純水長時間
- 定運轉而設計 。適合作為製藥、電子與鍋爐高純水的核心設
混床精煉器（Mixed Bed Polisher）
安裝於 RO 產水後段，是進一步降低導電度、將水質純度推向極致的關鍵設備 。
- 處理量：25 ~ 7,500 LPH
- 功能：進一步降低導電度、提升水質純度 。
- 應用：適用於電子與光電元件清洗、精密製程終端拋光用水 。
何謂離子交換？
離子交換是一種關鍵的水處理方法，利用帶有特定離子的樹脂吸附並交換水中所含的離子，達到純化目的 。
產品特色總覽
ROTEK 超純水系統致力於提供高穩定性、易於維護且符合法規標準的純水解決方案。
高純度水質表現
依應用需求設計多級純化流程，確保穩定達到高電阻 / 低導電度水質。
模組化設計，便於整廠規劃
可與前端 RO系統、預處理過濾器以及後段循環管路、消毒單元整合，形成完整 UPW 產線。
連續製程，減少耗材與停機
EDI 系統免化學再生，搭配適當預處理與RO，可長時間穩定運轉。
專業工程支援
提供設計諮詢、現場評估與施工建議，協助客戶符合相關製程與驗證要求（如製藥 WFI 前處理等）。
典型應用產業
ROTEK 超純水系統致力於提供高穩定性、易於維護且符合法規標準的純水解決方案。
半導體與面板業
產線清洗超純水
鍋爐應用
鍋爐補給水深度純化
製藥產業
WFI (注射用水) 前處理系統
電子與光電元件
元件清洗超純水
學術研究
實驗室、精密儀器與研究機構用水