深度拋光技術 ‧ 穩定產出 18.2 MΩ·cm 極致純水
混床精煉器 (Mixed Bed Polisher) 是超純水系統末端的關鍵「拋光」設備。專為 RO 產水或 EDI 出水設計,旨在進一步去除水中殘留的痕量離子。透過將高純度陽、陰離子交換樹脂精確混合,能將水質穩定推升至 10 / 15 / 18.2 MΩ·cm 等級,滿足實驗室與高標準製程的嚴苛用水需求。
為什麼您的系統需要混床精煉器?
即使經過 RO 或 EDI 處理,水中仍可能存在微量離子或因系統負載變化產生的水質波動。
雙樹脂同步拋光
陽樹脂 (H⁺型) 與陰樹脂 (OH⁻型) 同步作用,釋出的離子結合為水 (H₂O),實現極致純化。
末端水質保證
作為系統最後的「保險」,有效吸收前段工藝的波動,確保用水端始終獲得恆定的高電阻率表現。
核心亮點與技術優勢
極致純淨度
輕鬆達成 18.2 MΩ·cm 的理論純水極限,適合精密電子及半導體清洗。
即時監控技術
可配備線上電導度/電阻率儀表與智能警報系統,精準掌握樹脂飽和狀態。
靈活維護模式
依據案場條件與用水量,提供樹脂現場更換、外送再生或模組化抽換等彈性規劃。
易於整合
精巧的罐體設計,可輕鬆串聯於現有系統後端,作為快速提升水質的解決方案。
系統配置與應用路徑
混床精煉器可依需求靈活配置於不同位置:
RO 後混床(品質提升段)
- 適用:一般工業純水、部分實驗室基礎用水。
- 效果:將 RO 產水快速提升等級,降低導電度。
EDI 後混床(超純水拋光/保險段)
- 適用:半導體製程、高規格超純水、對穩定度要求極高的生產線。
- 效果:作為 EDI 的備援與強化,確保水質零死角。
典型流程參考
原水前處理 → RO 系統 → (EDI 可選) → 純水槽 → 送水泵 → 混床精煉器 → (UV/0.2µm 過濾) → 用水端
適用產業
半導體/電子業
晶圓清洗、精密電子零件除汙。
生技製藥
藥典級純水前段拋光。
化學實驗室
分析試劑配製、高精密儀器用水。
精密工業
表面處理、塗裝前處理高純水。