電子業/電廠用超純水

半導體製造廠需要高純水（UPW）用於晶圓生產過程，高純水的電阻率要求達到18.2MΩ·cm，幾乎不含任何雜質。本案設計並安裝了一套12 CMH的超純水系統；該系統採用淨水處理工藝，包括預處理、反滲透（RO）和電去離子（EDI），確保產水水質達到10 MΩ·cm以上的高純度標準。
該超純水系統有效去除了水中的離子、有機物和微粒，保證了水質穩定性和生產工藝的可靠性。系統設計合理，運行穩定，滿足了客戶對高純水的嚴格要求，顯著提升了電子產品的生產品質和效率。